Study of Electron Beam Resists: Negative Tone HSQ and Positive Tone SML300
Ivan Kostic, Anna Bencurova, Anna Konecnikova, Pavol Nemec, Adrian Ritomsky, Elena Koleva, Katia Vutova, Georgi Mladenov
In this paper the contrast and sensitivity characteristics are investigated concerning the negative tone electron beam resist HSQ (hydrogen silsesquioxane) and the positive tone SML300 electron beam organic resist, designed for a high-aspect ratio. Different developers were used for the HSQ resist – various concentrations of the tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH) solutions and TMAH solutions with adding different concentration of NaCl. For the SML300 resist the development was performed for 30 sec in IPA:H2O (7:3), MIBK:IPA (1:3) and xylene. The addition of different concentration of NaCl to TMAH has different influence on the contrast characteristic of the HSQ in comparison with the case of using a mixture of NaOH and NaCl as a developer. The observed contrast value decreases with adding NaCl solutions to TMAH, while the addition of NaCl to NaOH improves the contrast. In the case of SML300 using the xylene as a developer, the sensitivity of SML resist is improved considerably and found to be comparable to benchmark poly(methyl methacrylate) (PMMA) resist.
В тази работа са изучени контрастните характеристики и чувствителността на негативния електронен резист HSQ (хидроген силсескюиоксан) и на позитивния електронно-чувствителен органичен резист SML300, който е направен за получаване на високи отношения на височина към ширина на проявения релеф. Като проявител за HSQ бе използван TMAH с различна концентрация и смес на TMAH с NaCl c променяща се концентрация. За SML300 като проявител бе използвана смес IPA:H2O в съотношение 7:3; MIBK:IPA 1:3 и Ксилен. Добавката на NaCl към TMAH има различно действие върху контрастната характеристика на HSQ проявяван със смес от NaOH и сол. Наблюдаваният контраст се влошава вместо да се подобри. В случая на SML300, използвайки Ксилен като проявител, чувствителността на SML бе подобрена значително и бе сравнима с използвания като образец за подражаване резист полиметил метакрилат (ПММА).
Cite this article as:
Kostic I., Bencurova A., Konecnikova A., Nemec P., Ritomsky A., Koleva E., Vutova K., Mladenov G. Study of electron beam resists: Negative tone HSQ and positive tone SML 300. Journal – Electrotechnica & Electronica (Е+Е), Vol. 49 (5-6), 2014, pp. 279-283, ISSN: 0861-4717 (Print), 2603-5421 (Online)
