Mask Less Lithography Cluster for Low and Medium Volume Manufacturing
Viacheslav V. Kazmiruk, Ilya G. Kurganov, Tatiana N. Savitskaja
In the paper is presented a technological cluster for mask less e-beam lithography (ML2) and metrology for fast non destructive defect inspection and review, and for CD, 2D and 3D measurement.
The cluster potentialities comply ITRS targets for the next generations of microelectronics technologies up to 2020.
At the heart of cluster there are four dedicated e-beam based systems:
1. Electron Beam Direct Writer(EBDW)
2. Ultra fast SEM for CD, 2D, 2.5D and 3D measurements (UF SEM).
3. Defect inspection system (DIS)
4. Ultra low voltage SEM (ULV SEM) with electrons landing energy down to 1V.
Such a combination of lithography and metrology tools enables one to maximize productivity for particular application while maintaining acceptable cost of ownership.
The cluster forms the basis for start up factories and pilot lines when it is equipped with necessary standard tools for wafer processing. However, the cluster can be used successfully jointly with the mature factories for high volume production.
В работата е представен технологичен клъстер за безмасковаелектронна литография и метрология за бързо неразрушително намиране на дефекти и обзор, както и за CD, 2D и 3D измервания. Клъстерът има потенциал да съответства на ITRS мишени за следващата генерация на микроелектронните технологии до 2020 г. В сърцето на клъстера има четири електроннолъчеви системи: а) Електроннолъчева експонираща машина; б) Свръх-бърз СЕМ за CD, 2D, 2.5D и 3D измервания; в) Система за инспекция на дефекти; г) СЕМ със свръх-ниска енергия на кацане на електроните – до 1eV. Тази комбинация от литографски и измерителни инструменти позволява да се повиши производителността при специфични приложения при приемлива цена на собственост. Клъстерът формира база за първоначално производство и пилотни линии, когато се екипира със стандартни инструменти за обработка на пластини. Обаче, клъстерът може да се използва успешно заедно с изпитана фабрика за производство на големи обеми микроелектронни изделия.
Cite this article as:
Kazmiruk V., Kurganov I., Savitskaja T. Mask less lithography cluster for low and medium volume manufacturing. Journal – Electrotechnica & Electronica (Е+Е), Vol. 49 (5-6), 2014, pp. 284-289, ISSN: 0861-4717 (Print), 2603-5421 (Online)
