Pulse Width Dependence of the Self-Ignited Plasma Using a Plasma-Based Ion Implantation
Kazuhiro Shimono, Nobuyuki Fujimura, Hiromitsu Noguchi, Hiroshi Toyota, Yoshito Shirai, Takeshi Tanaka, Katia Vutova
Plasma based ion implantation (PBII) with high negative pulsed voltage applied to the test specimen has been applied to the sterilization process as a technique suitable for three-dimensional work pieces. We found that the PBII process reduced the numbers of active Bacillus pumilus cell (The number of bacteria survivors was reduced by 105 with 5 min exposure) using N2 gas self-ignited plasma generated by only pulsed voltages. In this study, the PBII methods were compared using Ar gas and N2 gas for the minimum voltage necessary for the self-ignition plasma generation. After this, we examine a generation condition of the plasma, used for a sterilization process.
Йонна имплантация, използваща плазмата при прилагане на отрицателно импулсно напрежение, бе приложена за стерилизация, като техника подходяща за 3D образци. Процесът редуцира количеството активни Бацили Пумилас с 105 при 5 мин. eкспониране, използвайки N2 самозапалена плазма, генерирана само от импулсно напрежение. В тази работа се сравняват резултати при използване на Ar и N2 за минималното напрежение, необходимо за генериране на самозапалена плазма. След това ние изследваме едно условие на генериране на плазма използвана за процес на стерилизация.
Cite this article as:
Shimono K., Fujimura N., Noguchi H., Toyota H., Shiray Y., Tanaka T., Vutova K. Pulse width dependence of the self-ignited plasma using a plasmabased ion implantation. Journal – Electrotechnica & Electronica (Е+Е), Vol. 49 (5-6), 2014, pp. 329-333, ISSN: 0861-4717 (Print), 2603-5421 (Online)
