Pulse Width Dependence of the Self-Ignited Plasma Using a Plasma-Based Ion Implantation

Pulse Width Dependence of the Self-Ignited Plasma Using a Plasma-Based Ion Implantation

 

Plasma based ion implantation (PBII) with high negative pulsed voltage applied to the test specimen has been applied to the sterilization process as a technique suitable for three-dimensional work pieces. We found that the PBII process reduced the numbers of active Bacillus pumilus cell (The number of bacteria survivors was reduced by 105 with 5 min exposure) using N2 gas self-ignited plasma generated by only pulsed voltages. In this study, the PBII methods were compared using Ar gas and N2 gas for the minimum voltage necessary for the self-ignition plasma generation. After this, we examine a generation condition of the plasma, used for a sterilization process.

 

Йонна имплантация, използваща плазмата при прилагане на отрицателно импулсно напрежение, бе приложена за стерилизация, като техника подходяща за 3D образци. Процесът редуцира количеството активни Бацили Пумилас с 105 при 5 мин. eкспониране, използвайки N2 самозапалена плазма, генерирана само от импулсно напрежение. В тази работа се сравняват резултати при използване на Ar и N2 за минималното напрежение, необходимо за генериране на самозапалена плазма. След това ние изследваме едно условие на генериране на плазма използвана за процес на стерилизация.

 

Download PDF full text
20140506-55