Comparison of Plasma Spectral Characteristics Using a Plasma- Based Ion Implantation
Hiromitsu Noguchi, Nobuyuki Fujimura, Kazuhiro Shimono, Hiroshi Toyota, Yoshito Shirai and Takeshi Tanaka
Plasma-based ion implantation is a recently developed technique used to modify the surface of materials by immersion in plasma coupled with the application of a negative bias voltage.
In this study, we compare the properties of the plasma spectrum with respect to the change in applied voltage as well as the difference in the plasma generation method used.
Spectra of 428 nm and 656 nm show the generation of Ar ions.[1] In addition, the strength of a spectrum emitted by the ion is proportional to the number of the generation of the ion. Comparisons of these spectra suggest that the number of ions increases in line with an increase in voltage. Moreover, our findings suggest that the number of ions increase for a combination of RF burst plasma and selfignition plasma compared with the number of ions for only self-ignition plasma.
It was shown that we could estimate the property of the plasma ion by emission spectrum.
Базираната на плазма йонна имплантация е техника, разработена в последно време, която се използва за модификация повърхността на материалите чрез потапяне в плазма и съединение на отрицателен потенциал. В това изследване ние сравняваме особеностите на плазмения спектър, при промяна на приложеното напрежение, както и на начина на генериране на плазмата. При 428 nm и при 656 nm спектъра показва наличие на Ar йони. В допълнение, силата на емитирания спектър от йоните е пропорционален на числото генерирани йони. Сравнението на спектрите показва, че числото йони нараства линейно с увеличение на напрежението. Нещо повече, ние намерихме, че броят йони расте за комбинация от ВЧ разрядна плазма и само-запалваща се плазма сравнено с броя йони само за само-запалваща се плазма. Показано е, че оценка на свойствата на плазмените йони от емисионния спектър.
Cite this article as:
Noguchi H., Fujimura N., Shimono K., Toyota H., Shirai Y., Tanaka T. Comparison of plasma spectral characteristics using a plasmabased ion implantation. Journal – Electrotechnica & Electronica (Е+Е), Vol. 49 (5-6), 2014, pp. 339-342, ISSN: 0861-4717 (Print), 2603-5421 (Online)
