Robust model-based approach for electron beam lithography process control
Asya Asenova-Robinzonova, Elena G. Koleva
The present study is directed toward the investigates the dependency of the geometric characteristics of the developed post-exposure negative electron resist AR-N 7520 profiles on the parameters of the electron beam lithography process. Robust model-based approach is applied, considering the influence of process parameter variations under production conditions. This approach can be implemented for the improvement of the reproducibility of the resist profile quality characteristics and thus to enhance the quality of the constructed nanostructures.
Настоящото проучване е насочено към изследване на зависимостта на геометричните характеристики на разработените пост- експонирани отрицателни електроноустойчиви профили AR-N 7520 от параметрите на процеса на електронно-лъчева литография. Приложен е моделно-базиран робастен подход, при отчитане на влиянието на вариациите на параметрите на процеса при производствени условия. Този подход може да бъде приложен за подобряване на възпроизводимостта на качествените характеристики на профилите на резиста и по този начин за подобряване на качеството на изградените наноструктури.
Cite this article as:
Asenova-Robinzonova A., Koleva E. G., Robust model-based approach for electron beam lithography process control. Electrotechnica & Electronica (Е+Е), Vol. 58 (2), 2023, pp.46-50, ISSN: 0861-4717 (Print), 2603-5421 (Online)
